2005第四届ASML（上海）先进光刻技术研讨会成功召开！

　　2005年10月21日下午，世界半导体工业先进科技设备的领先者之一的ASML/阿斯麦公司在上海浦东淳大万丽酒店举办了2005第四届ASML（上海）先进光刻技术研讨会。

　　ASML公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术用以支持复杂的集成电路制造。ASML目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构，拥有5000位员工。当今的先进光刻以进入ArF强势领域，并以高速推向45纳米生产技术。早期的镜头设计的挑战如材质控制，表面污染等等问题已成为历史，如今超高NA，浸没光学的应用也已经迈入生产研发。但是在低k1光刻工艺还是有许多其它相关科技的挑战。ASML与中国的科技伙伴们在本届研讨会上探讨了它们研发中所得到的成果与经验，并跟工程师们进行了充分的交流与切蹉。

　　ASML精心邀请了从全球来到本次研讨会的先进光刻技术专家与中国集成电路制造业的工程师们共同分享了他们的丰富经验，同时与您一起展望光刻技术的未来发展趋势。本次研讨会主题是：“Extending ArF technology for tomorrow's manufacturing”；研讨会的内容包括“ASML Technology Roadmap，Implementation of ArF Immersion Lithography，Design for Manufacturing，High Performance Manufacturing，Optics for Hyper NA Lenses，Imaging Challenges and Solutions”等目前主流的先进光刻技术。

　　本次研讨会吸引了TSMC, SMIC, ASMC, GSMC, BCD, Belling, HHNEC, HeJian, Hynix等知名的集成电路制造企业超过180人的工程师的积极参与，现场问答互动气氛非常活跃，这也是目前光刻领域最成功的研讨会之一。

　　欲了解更多ASML公司信息，敬请登陆：www.asml.com